Capto HIC填料的基架为高交联，高流速琼脂糖，配基与传统的HIC填料相同，主要包括苯基（Phenyl），丁基（Butyl）和辛基（Octyl）。根据填料粒径的不同，可分为Capto（平均粒径75um）和Capto ImpRes（平均粒径40um）两个系列。

Capto HIC填料的特点：

增强的物理机械性能

图（1）Capto基架填料优越的物理机械性能。（A）可以使用更高的柱高和层析流速（B）更宽的工艺参数操作窗口，灰色的线为保留时间，单位分钟。

优越的化学耐受性

通过测定总有机碳（TOC）的泄露，显示Capto HIC填料可以在pH范围1-14，温度40℃条件下，耐受一个星期（图2），同时填料的疏水性能和配基密度都没有明显的变化。优越的化学耐受性可以保证层析填料使用后的彻底清洗，增加了层析填料的使用寿命。

图（2）

相同的选择性和分辨率

Capto HIC与HIC Sepharose Fast Flow具有近乎相同的选择性和分辨率，而Capto HIC ImpRes与HIC Sepharose High Performance在选择性和分辨率上也几近相当（图3）。

图（3）Capto Phenyl ImpRes与Phenyl Sepharose high performanc（A），Capto Butyl ImpRes与Butyl Sepharose high performance（B）选择性与分辨率的对比。（1）核糖核酸酶A；（2）溶菌酶；（3）α-胰凝乳蛋白酶原

相当的动态结合载量

通过测定BSA在穿出10%条件下的动态结合载量（Qb,10），对比Capto HIC ImpRes和HIC Sepharose high performance，两者具有相当的动态结合载量（表1）。